Innehållsförteckning

    2.3.1 Spänningskorrosion

    I situationer då den rostfria komponenten är lastbärande, eller om det förekommer inre spänningar som exempelvis uppkommer vid svetsning, kan sprickbildning inträffa i vissa miljöer, Kloridmiljöer i samband med förhöjd temperatur är liksom för de övriga korrosionsformerna den vanligast förekommande riskmiljön.

    Flera mekanismer har föreslagits som förklaring på de uppträdande sprickorna. De som oftast framförs är kopplade till deformation via de glidband som uppkommer vid deformation, och som då de träffar en ytteryta bryter passivfilmen och exponera oskyddad metall för den korrosiva miljön. Om tillgången på syre är alltför begränsad kan passivfilmen inte återbildas, utan en anodisk upplösning av grundmaterialet sker. Propageringen drivs av samma elektrokemiska mekanismer som punktkorrosion och spaltkorrosion, det vill säga en sprickspets som är anodisk och sprickväggar eller ytteryta som fungerar som katod. Den elektrokemiska karaktären kan enkelt påvisas genom att förändra potentialen till ett ”ofarligt område”, och genom att därefter gå tillbaka till den ursprungliga potentialen kan man få sprickan att stoppa upp respektive fortsätta att löpa.

    Spänningskorrosion uppträder vid högre temperaturer och därmed är kloridkoncentrationen i vätskan inte helt avgörande. Ofta bildas kondensat vid omväxlande förångning och kondensering, där mycket höga halter av klorider kan ackumuleras med sprickbildning som följd. Ett typiskt fall är då saltvatten träffar isolerade varma rörledningar vilket, leder till just förångning av vattnet och en anrikning av kloridhalten över den tillåtna.

    En liknande sprickbildning kan även inträffa i närvaro av väte, speciellt för ferritiska och martensitiska rostfria stål. Sprickbildning orsakad av väte brukar normalt ske vid lägre temperaturer än kloridspänningskorrosion och vid andra elektrokemiska betingelser. HISC (Hydrogen Induced Stress Cracking) har till exempel konstaterats vid katodiskt skydd av rostfria anläggningar när den pålagda potentialen är för negativ så att väteanrikningar och försprödning sker.